工業EDI超純水設備

超純水，電阻率達到18MΩ*cm（25℃）的水。常用于集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。

為滿足用戶生產工藝用水需求，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。

在工藝設計上，源水（市政自來水），經多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉型陽離子軟化器、精密過濾器等預處理系統后進入二級RO反滲透系統，再進入EDI電除鹽系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，由PLC控制系統完成包括阻垢劑計量泵、高壓泵、電動慢開門的順序啟動和停止；停運時反滲透裝置的自動低壓沖洗；運行過程中低壓壓力開關與系統的連鎖運行；各轉動設備的運行監測和報警等。

超純水處理：既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值（25℃）。超純水處理，是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm（25℃）。

工業EDI超純水設備的原理

1. 水進入純化系統，主要部分流入樹脂 / 膜內部，而另一部分沿模板外側流動，以洗去透出膜外的離子。

2. 樹脂截留水中的溶存離子。

3. 被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動。

4. 陽/陽離子透過陽離子膜，排出樹脂 / 膜之外。

5. 濃縮了的離子從廢水流路中排出。

6. 去離子水從樹脂 / 膜內流出。

工業EDI超純水設備特點

1.整體化程度高 , 易于擴展 , 增加膜數量即可增加處理量。

2.自動化程度高 , 遇故障立即自停 , 具有自動保護功能。

3.膜組件為復合膜卷制而成 , 表現出更高的溶質分離率和透過速率。

4.能耗低 , 水利用率高 , 運行成本低。

5.結構合理 , 占地面積少。

6.先進的膜保護系統 , 在設備關機 , 淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈 , 延長膜壽命。

7.系統無易損部件 , 無須大量維修 , 運行長期有效。

8.設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。